腐蚀机对功率半导体器件中半导体芯片进行腐蚀加工均采用人工操作，显影腐蚀台，即先人工将半导体芯片除台面外的两面涂黑蜡保护，显影设备，再人工将半导体芯片台面进行腐蚀、清洗，人工用有机物去除黑蜡、清洗、烘干。现有人工对半导体芯片台面进行腐蚀不仅存在手工涂蜡浪费人力及有机物的问题，而且还存在不能在保持芯片干净的情况下直接进行烘干的问题。
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式，性能各有优劣。其中，物理性 刻蚀，又称离子束溅射刻蚀，原理是使带能粒子在强电场下加速，这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片表面材料，化学性刻蚀，又称等离子体刻蚀，纯化学刻蚀作用中，通过等 离子体产生的自由基和反应原子与硅片表面的物质发生化学反应达到刻蚀的效果，可以得到较好 的刻蚀选择性和较高的刻蚀速率。
LED厂高层主管指出，目前大陆各地方在节能减碳的落实上都有压力，必须借重台湾LED厂的实力，但又止不希望由台厂来主导，因此大多数愿意以权利金的方式***，黑河显影，对台厂是一大利基。
随着台湾大部份LED厂商产能都被绑住，二线厂也开始受惠，
据了解，未来还有其它的LED厂也会有来自地方级的权金利收入。
LED厂高层主管指出，显影清洗机，目前大陆各地方在节能减碳的落实上都有压力，必须借重台湾LED厂的实力，但又止不希望由台厂来主导，因此大多数愿意以权利金的方式***，对台厂是一大利基。
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