EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水CO2的控制。反渗透前可通过加碱调节pH值，尽可能多地去除CO2，也可通过脱气塔和脱气膜去除CO2。进水硬度控制。结合CO2去除，RO进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，EDI纯水设备，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。 TOC控制。结合其他指标要求，增加RO级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一。合格的RO出水一般都能满足EDI超纯水系统进水要求。
EDI超纯水系统由几个模块组成
EDI超纯水系统由几个模块组成，每小时产水量相同。EDI模块根据超纯水的实际使用情况启动或停止。手动操作相对频繁，但操作相对简单。只需打开EDI进水阀、极水阀、浓水阀，打开电源即可。同时，可根据出水水质调节投加量(氯化钠)、电解电压和电流大小即可。 EDI作为一种经济实用的环保型超纯水系统，超纯水设备，与混床相比具有以下优点：再生***无需再生，运行成本低，纯水设备，不需要中和剂，水资源利用率高，地面和空中工作可以大大减少，全自动操作，降低EHS风险，连续运行，出水水质稳定。EDI超纯水系统是超纯水降低生产成本、提高生产效率、减少废水排放、降低生产区域风险的有效手段之一。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求
是指载有集成电路的半导体元件。芯片制造又称晶圆制造，半导体纯水设备，是在晶圆表面通过物理和化学工艺步骤形成器件，并用金属线将器件连接起来形成集成电路的过程。芯片的需求主要来自科技的蓬勃发展，电子消费产品芯片的需求不低于汽车行业的需求。芯片的生产过程冗长，对所有的设备技术要求很严格，短时间解决芯片短缺问题仍然是一个难题，而如何提高芯片的成品率问题就显得尤为重要。
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