苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS***集中供液系统式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。
电科装备四十五所第四设备事业部自主研发的JHQ-400激光划切机设备突破了橡胶钝化二极管晶圆划切的加工工艺，半导体酸洗机，划切成品率高达100%，成为世界上首台橡胶钝化二极管晶圆加工的激光划切设备。该设备的研制成功，标志着四十五所橡胶钝化二极管晶圆激光加工技术已达国际水平，后续将拥有非常可观的市场前景。
清洗安全操作规范：
(1)有机废液和无机废液要回收严格分开，放入不同密封箱里；
(2)异bing醇和去胶液的温度已经固定，不得随意更改。如确有需要，向领班汇报，等待上级批准；
(3)***和混合溶液一定要等到冷却到30°C以下才能回收；
(4)溶液配制或回收时，溅到操作台上的溶液一定要用水冲干净，半导体清洗机，再用氮qi吹干，保持工作台的清洁、干净。
RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后，几十年来被广泛采用。它的基本步骤初期只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的RCA清洗大多包括四步，即先用含***的酸性进行酸性氧化清洗，半导体腐蚀机，再用含胺的弱碱性进行碱清洗，接着用稀的qing氟酸溶液进行清洗，镇江半导体，然后用含盐酸的酸性进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（DI水）进行漂洗，然后再用低沸点进行干燥。
