在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，edi超纯水设备价格，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水设备压力过高该如何是好？
EDI超纯水设备压力过高该如何是好？当EDI超纯水设备压力过高时，盐的吸收速度会变得非常快，edi超纯水设备厂，缩短了再生时间，无法达到树脂再生的效果。如果EDI超纯水设备压力过高，应及时检查水阀、管道堵塞、浓水调节等因素。逐一检查故障并采取相应的解决方案。常见解决方案： 1、增加上游净化水压力，edi纯水设备，根据RO入口截止阀调整浓水和产水压力。 2、打开高压泵出口阀和RO入口阀，或关闭浓水管道上的针阀。为了保证EDI超纯水设备的正常运行和使用寿命，我们在日常使用中应多观察并及时记录。
EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点：
1、前置反渗透设备出水不合格
如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。
2、当前的EDI控制系统存在问题
工作电流增大，产水水质不断改善。然而，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H+和OH-离子，唐山edi超纯水设备，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。
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