




镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用
5.铜坩埚,需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子灯丝,需要根据机台配置选用
8.离子源,需要根据机台配置选用耗材
三,设备日常维修***部件需要根据机台型号选用
四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,不锈钢真空pvd镀膜,900mm,伦教真空pvd镀膜,1100mm,1300mm,1350mm,真空pvd镀膜厂家,
真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600,真空pvd镀膜加工,高的甚至可达到HV700以上,而电镀镍的硬度仅为 HV160-180,显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后,其硬度还可以提高,可达HV900以上。
自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态,即处于基本平面状态,有自润滑性,因此摩擦 系数小,非粘着性好。
离子镀膜
即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的,因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,并在离子轰击下,将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中,基片始终受到高能粒子的轰击,十分清洁。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术,以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
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