清洗设备应用行业
1. 石油化学工业:设备和管道的清洗、除垢、除焦、清除高分子聚合物和生产工艺中沉积的缩合物等。
2. 精密电子工业:光学仪器、精密机械及机器人以及零部件的洗净.
3. 电力工业:高压输变站设施及配电柜和变压器等清洗。
5. 机械工业:金属设备的酸洗、除锈、钝化、去油和镀膜以及精加工前的金属表面处理。
6. 冶金工业:各种冶炼炉冷却系统高硅垢的清洗、以及液压、润滑系统的清洗。
7. 热能动力工业:、热电厂、工业锅炉的清洗除垢和水质处理。
8. 交通运输业:船舶、内燃机车、汽车等的清洗。
9. 建筑工业:建筑物墙面、上下水管道、采暖及通风设备和各种***空调设备的清洗。
10.宝石加工、钟表工业、光学机械等精密工业:计量仪表、钟表线、手饰、带扣打字盘、凹型部件、环、齿轮、发条、轴承、宝石、透镜、眼镜架、***装饰品、照相机、快门、零件、钻研模具
11.汽车工业:阀、点火栓、气化栓、制动泵、燃料泵、蓄电池、电极板、活塞环、机器操纵盘、部件、内部装配的部件、摩托车用油箱
12.橡胶工业:手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模
13.***ji关:图章、受理号码牌子、瓷器、银制品
单晶圆清洗(SWC)系统，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，硅片刻蚀台，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，硅片腐蚀，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
等离子清洗法利用等离子体产生的自由基与有机***反应，再以气流的方式去除，无锡硅片，从而达到清洗的目的。由于AP功率强，一般会对金属表面产生影响，所以，在金属制程中一般不采用AP Pla***a的清洗技术。AP使用的气体主要是氮气和空气按照一定的比例混合，同时，硅片腐蚀台，和玻璃基板保持合适的距离，加载一定的电压，从而产生自由基，对基板表面进行清洁。
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