派瑞林F粉是一种性能优异的涂层材料，由于其优异的性能和的真空气相沉积工艺使其广泛应用于许多领域。作为保形防护材料在许多方面也优于其他常见涂层材料；派瑞林 F粉已在航天航空、电子、半导体等诸多高科技领域得到了广泛应用，未来，随着工艺、技术和产品质量的不断完善，派瑞林F粉在国内的应用规模将快速增长。
派瑞林F粉别名：Parylene F粉、八氟对二二聚体，该材料为含氟的高分子涂层材料。膜层具有高通透性、厚度均匀、耐酸碱、介电特性好、光电和器械等领域都有着广泛的应用。
镀灯具铝膜。因为是金属膜，当然是直流磁控溅射好。速度快。中频适合镀化合物膜。如果选离子源，霍尔离子源就够了。但要注意灯具大小。一般霍尔离子源是圆形，离子源覆盖的面积有限。你一定要用离子束将工件全部覆盖到。若普通霍尔离子源太小，可考虑用阳极层离子源。离子源难起辉的一个原因是磁场太弱激发不起等离子体。离子源的种类虽多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中抽出气体离子并加速成离子束，让后视需要注入电子中和离子流。
派瑞林（Parylene）可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，广东派瑞林真空镀膜，可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨，不耐酸碱等方面的严重缺陷。其工艺特点：派瑞林（Parylene）涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体，广州派瑞林真空镀膜，气体进入沉积室，派瑞林真空镀膜，通过沉积室，即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林（Parylene）真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺，降低磁体表面的氧化能力，长安派瑞林真空镀膜，提高磁体的抗蚀性，相比电镀磁体工艺，该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50％，且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本，提高产品性能。
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