超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，半导体纯水设备，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，纯水设备，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？EDI超纯水技术，电子纯水设备，也称为连续电除盐技术，是两种成熟的水净化技术——电渗析和离子交换技术的结合。在低能耗的条件下去除溶解盐。运行中无需化学再生，出水电阻率高于混床出水，可达10-18.2MΩ.CM，达到***电子级水I级标准。EDI对一级反渗透出水电导率要求不高，进水电导率在4-30us∕cm都能够合格产水。可能需要添加软化装置，超纯水设备，以去除水中的钙和镁离子。如果电导率高，只需调整工作电流和用量(氯化钠)，这是一项环保技术。EDI超纯水技术中的离子交换树脂不需要酸碱的化学再生，节省了大量的酸、碱和清洗用水，大大降低了劳动强度。更重要的是，无废酸碱排放，属于非化学水处理系统。无需酸碱储存和处理，无废水排放。
纯水设备的用途： 1、电厂化学水处理 2、电子、半导体、精密机械行业超纯水 3、食品、饮料、饮用水的制备 4、小型纯水站，团体饮用纯水 5、精细化工、精尖学科用水 6、其他行业所需的高纯水制备 7、制药工业工艺用水 8、海水、苦咸水的淡化 二、水的电导率不同 (一)超纯水的出水水质：电阻率>15MΩ.cm 超纯水水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 (二)纯水分为：工业纯水和饮用纯水工业纯水
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