传统的等离子体抛光技术在真空、低压或者常压下激发产生等离子体，利用等离子体中的活性粒子与表面材料粒子发生化学反应，等离子抛光加工公司，生成挥发性物质，将表面材料去除，主要应用于光学元件的加工，处理对象绝大多数为半导体材料。金属表面电解质等离子抛光利用气液等离子体发生技术，将工件置于抛光液中，施加一定的直流电压，使工件周围的抛光液汽化，形成一个包围工件的气层，通过在气层的不同位置形成放电通道，承接等离子抛光加工，将表面材料有选择地去除，实现对金属工件表面抛光。等离子抛光加工
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，厚街等离子抛光加工，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化
等其他要求精度高标准的行业
如此精湛的技术抛光后的效果如何呢?
经过多方对比之后发现，突破后的技术抛光出的产品就好像一面镜子，表面光亮，无暇，光滑，和电镀后的效果几乎无异。
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