如何确保超纯水设备出水水质达标？
超纯水设备制备超纯水的品质在一定程度上取决于设备本身及日常使用过程中正确操作，以保持超纯水的质量。那么，要如何确保超纯水设备出水水质达标？
1、超纯水设备储水桶应配备空气过滤器，防止空气通过进水口进入储水桶，造成水质污染。
2、超纯水取水后易受环境因素污染，需要用水时应立即使用，尽量减少超纯水与环境的接触。
3、水箱应避免放置在阳光直射的地方。
4、应尽量避免将超纯水长期储存在储水桶中，以防止因长期储存而导致水质下降。
5、超纯水取水使用时，应先排出初始超纯水，然后采用取水容器取水。
6、超纯水设备长期不用时，应将压力储水桶内的纯水全部排出，防止污染。
7、超纯水设备短期不使用时，需要每周开机通水一次，以防止***滋生。
8、取水时，应尽量避免产生水泡影响水质。
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下： 1、控制进水电导率。控制预处理过程中的电导率，半导体纯水设备，使EDI超纯水系统入口电导率小于40μS/cm，确保出水电导率合格，纯水设备，去除弱电解液。 2、工作电压电流控制。系统在运行过程中应选择合适的工作电压电流。同时，EDI超纯水系统的电压-电流曲线上存在一个极限电压-电流点，它与进水水质、膜和树脂性能、膜结构等因素有关。为了电离一定量的水以产生足够的H+和OH-离子以再生一定量的离子交换树脂，所选EDI超纯水系统的电压-电流工作点必须大于极限电压-电流点。
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，EDI纯水设备，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
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