EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响？EDI超纯水系统是电子、化工、电镀等对水质要求较高的行业的一种制水设备。运行能耗低，无酸碱废水排放。虽然设备***较高，但后期维护成本相对较低，无需酸碱再生。那么，电子超纯水设备，EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响? 1、原水：原水水质发生变化，原水电导率高，产水自然受到影响。 2、预处理：机械过滤器、活性炭过滤器未定期及时反冲洗。 3、反渗透膜元件损坏或超过使用寿命。 4、保安过滤器污堵。 5、RO除盐率下降和产水量下降10%或RO进水压力上升10%时，有没有及时进行清洗。
EDI超纯水系统取水注意事项
由于EDI超纯水系统的生产速度和效率远远高于传统纯水生产标准，已成为实验室纯水制备的必备设备之一。不同的EDI超纯水系统可以生产的纯水超纯水质量也不同。
在取水时应注意以下几点：
1、EDI超纯水系统每7-10天冲洗一次，防止***滋生。
2、如果长时间不适用，edi纯水设备，必须将纯水机和水箱中的水全部排空。
3、EDI超纯水系统取水时，唐山纯水设备，应先排出初始纯水和超纯水，待水质稳定后再取水。
4、不要将EDI超纯水系统和储水箱放置在阳光直射的地方，以防***滋生。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，半导体纯水设备，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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