清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;其中应用领域广泛的当属喷淋清洗和超声波清洗;在工业生产及电子产品的生产过程中，随着对产品部件表面清洁度的提高，超声波精密清洗方式正越来越多的人们所关注和认可。
NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，显影腐蚀台，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），景德显影，主要有HF，H2SO4，H2O2，显影设备，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
超声波清洗机的应用
***、造币行业：
需要清洗的产品：图章、受理号码牌子、瓷器、金/银制品等
污染源：手垢、灰尘、***、脏污
使用清洗剂：中性洗涤剂、碱性洗涤剂；纯水
印刷/制版行业：
需要清洗的产品：旋转机、金属板、铅字、母字、***小玻璃瓶、照相底版、金属底盘等
污染源：油墨、***、油、染料
使用清洗剂：轻油（石油系洗涤剂）；碱性洗涤剂、中性洗涤剂
显影腐蚀台-苏州晶淼半导体(在线咨询)-景德显影由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司是江苏 苏州 ,清洗、清理设备的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州晶淼半导体***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州晶淼半导体更加美好的未来。
