金属pvd镀膜-pvd镀膜-泰坦金属

镀膜制造需要部分耗材

　　1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm，五金pvd镀膜公司，)需要根据机台配置选用

　　2.TIO2颗粒

　　3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ

　　4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm，需要根据机台配置选用

　　5.铜坩埚，需要根据机台配置选用

　　6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm

　　7.电子灯丝，需要根据机台配置选用

　　8.离子源，金属pvd镀膜，需要根据机台配置选用耗材

　　三，设备日常维修***部件需要根据机台型号选用

　　四，光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样，尺寸可以选择，900mm，1100mm，1300mm，1350mm，

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，pvd镀膜，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，五金pvd镀膜厂家，经历成膜过程，终形成薄膜。

从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，

以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状，通以电流，加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质，电阻加热源主要用于蒸发Cd、

Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。