超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，edi纯水设备，从而达到行业用水要求。
超纯水的“有效期”是多久？
超纯水的“有效期”是多久？1、即取即用 超纯水取水后很容易遭到环境污染，半导体纯水设备，所以即取即用方式更合适。只有把超纯水与环境接触的时间缩短，才能够获得纯度极高的超纯水。 2、存放时间 在配制高纯度的化学***时，尽量不要使用长时间储桶中存放的超纯水，因为储桶经长时间使用后，会因杂质、微生物的污染而造成水质的劣化，储存时间过长会导致超纯水在使用时已经不再是超纯水。 3、纯水储桶需安装空气过滤器，超纯水设备，防止环境因素造成的污染。
EDI超纯水系统生产的纯水和超纯水能保存多久？
EDI超纯水系统的生产速度远高于传统纯水生产设备。已成为各水务行业实验室制水设备之一。虽然不同EDI超纯水系统制备的超纯水水质不同，但水质基本相同。一般来说，实验室中的水纯度越高，储存时间越短，以18.2MΩ.cm的超纯水来说，放置时间越长，下降越严重。一般情况下，放置1小时后，超纯水的电阻率将降至4MΩ.cm，pH值将降至5.7左右。同时，由于环境的影响，水中的微生物会迅速繁殖。
因此，保定纯水设备，一般情况下，超纯水制取后不宜长期存放，应遵循“去用”的使用理念。
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