清洗的设备仪器
主要以湿法清洗为主，以下是与湿法清洗相关的设备仪器。清洗机：循环去离子(DI)水，半导体清洗设备，对蓝宝石进行冲洗；形成局部通风区域，对清洗过程产生的***腐蚀性气体进行及时排除。
苏州晶淼半导体设备有限公司的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。 我们的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。
根据超级电容的设计生产能力，半导体腐蚀机，标准配置也可以进行调整，设备数量因产量而增加或减少。
全自动超级电容真空干燥系统系统特点：
在各单个制备工序以及在从一道工序转移到下一道工序的过程中完全实现真空环境；
高真空度、高工作温度、高温度均匀度、技术参数全程·、自动化控制。
全自动超级电容真空干燥系统优势：
真空干燥时间可达3-4小时，半导体湿法设备，比传统工艺24-36小时数倍缩短，生产效率数倍提高；
制备全过程高真空环境，扬州半导体，高工作温度，高温度均匀度
有效排除超级电容CELL内部水、气、杂质的影响；
从而提高CELL功率密度，降低CELL内阻，改善CELL高频特性；
极大地提升了超级电容CELL和MODULES的一致性及使用寿命等技术参数。
清洗:
从溶解的相似相溶规律出发，一般采用-乙醇清洗，或采用乙醇yi醚混液和异bing醇代替乙醇。采用乙醇-yi醚是因为这种混合液的挥发性强，采用异bing醇是因为异bing醇的脱脂能力强。为降低这些本身在MCP表面的残留，在每次使用后都要用超纯水进行漂洗。在不***MCP表面特征的情况下可结合搅拌、鼓泡、溢流、喷淋、超声、蒸汽脱脂等方法一起使用。
