残留的光刻胶、树脂、残留物和其他有机污染物暴露在等离子体中，清洗机 slc (100)可以在短时间内去除。等离子表面清洗和表面改性（等离子表面处理）利用等离子的特性对待处理固体原料的表面进行清洗、活化和激发，去除表面的微观结构、化学性质和能量。目的是改变。等离子体是一种高能、不稳定的状态。等离子体以各种方式用于利用这种高能量和不稳定性。
EDC 系统具有可编程阀，显影腐蚀机，它可以使单***滴胶按照蚀刻，开发和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等后面的处理步骤。蚀刻/显影/清洗***系统采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和***的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，显影设备，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，承德显影，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
单片波清洗机在配合超稀化学液体 (ppm级别)使用后，可用于微小颗粒（小于65nm）去除以及化学氧化层控制，显影清洗机，以替代传统‘Nano Spray’清洗技术，在薄膜沉积后的清洗领域有广泛的应用前景。盛美半导体的执行官王晖介绍称 “经过不断优化，该清洗机已于近日通过了韩国集成电路大厂的大生产线工艺评估，有望成为下一代微小颗粒清洗的主流设备”。
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