苏州硅片-硅片清洗台-苏州晶淼半导体(推荐商家)

清洗机机械/工具/量具/刃具工业：

需要清洗的产品：轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、弹簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等

污染源1：磨料、切屑、防腐剂、切削油、冷却油、磨削砂轮孔的堵塞、助熔剂

污染源2：灰尘、氧化皮

使用清洗剂1：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)

使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂；纯水

注意事项

1·当操作高压清洗机时：始终需戴适当的护目镜，硅片清洗台，手套和面具。

2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。

3·经常要检查所有的电接头。

4·经常检查所有的液体。

5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。

6·当未使用时，总是需将设置处于安全锁定状态。

7·总是尽可能地使用*低压力来工作，但这个压力要能足以完成工作。

8·在断开软管连接之前，硅片清洗，总是要先释放掉清洗机里的压力。

9·每次使用后总是要排干净软管里的水。

10·决不要将设备对着自己或其他人。

11·在检查所有软管接头都已在原位锁定之前，决不要启动设备。

12·在接通供应水并让适当的水流过之前，硅片刻蚀机，决不要启动设备。然后将所需要的清洗喷嘴连接到喷杆上。

注意：不要让高压清洗机在运转过程中处于无人监管的状态。每次当你释放时泵将运转在旁路模式下，如果一个泵已经在旁路模式下运转了较长时间后，泵里循环水的过高温度将缩短泵的使用寿命甚至损坏泵。所以，应避免使设备长时间运行在旁路模式。

硅片清洗 化学清洗

 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，苏州硅片，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（***、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。