膜厚仪———广州景颐光电科技有限公司是一家专门做膜厚仪的厂家
光学膜厚测量仪
光学膜厚仪是通过测量一定波长内光线垂直入射到样品表面时，膜厚仪批发，薄膜表面的反射光来测量薄膜的厚度、粗糙度及光学常数。由于光学测量膜厚方法准确、无***，且光谱反射法比椭偏仪操作简单、测试速度快，适合测量具有结构的薄膜。
设备性能指标：
1、测量薄膜厚度范围：4nm～30um（使用10x、15x物镜，样品折射率为1.5左右时，4nm～2um（使用40x物镜）；
2、测试面积：光栏尺寸（250um）/物镜倍率；
3、该设备显微镜物镜：5x、10x、15x、40x。其中5x物镜用于寻找测试区域，10x和15x物镜用于测试薄膜厚度；
4、40x物镜用于测试厚度低于2um的薄膜厚度；
5、测试精度：测试膜层总厚度的0.2%或2nm中的较大者；
6、光源：灯、钨灯；
7、测试波长范围：190nm～1100nm；
8、大测试样品尺寸：8寸。
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膜厚测试仪
膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。
手持式的磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，膜厚仪哪家好，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。
台式的荧光X射线膜厚测试仪，是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子，俗称为二次荧光，在通过计算二次荧光的能量来计算厚度值。
采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。覆层越厚，则磁阻越大，磁通越小。
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关于膜厚测量仪的介绍
景颐光电新款膜厚测量仪FILMTHICK-C100利用光干涉原理，膜厚仪厂家，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过20000小时，紧凑设计保证了测量的高度准确性和可重复性。
通过内嵌式微处理器控制，小型光谱仪，光谱范围200NM -250ONM（波长范围根据配置选择)，分辨精度可达3648像素，16位级A/D分辨精度。配有USB通讯接口。FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。
可应用于光伏、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量，在半导体、太阳能、液晶面板和光学行业以及科研所和高校都得到广泛的应用。
OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、极值法、拟合法多种高精度算法，包含了类型丰富的材料折射率数据库，河南膜厚仪，开放式材料数据库，有效地协助用户进行测试分析，测量期间能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。
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