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荧光膜厚仪介绍
X射线荧光(XRF)测厚仪,简称荧光测厚仪、荧光膜厚仪,是在很多领域被广泛应用的高精度仪器,那么什么是XRF呢? XRF,X射线荧光光谱分析法(X Ray Fluorescence),反射全自动膜厚仪,利用初级X射线光子或其他微观察离子激发待测物质中的原子,半导体全自动膜厚仪,使之产生荧光而进行物质成分分析和化学态研究的方法。荧光膜厚仪又是什么呢?
荧光膜厚仪俗称X射线荧光测厚仪、荧光测厚仪、荧光膜厚仪、镀层测厚仪、膜厚仪、膜厚测试仪、金镍厚测试仪、电镀膜厚仪等,洛阳全自动膜厚仪,主要用于精密测量金属电镀层的厚度。比如金属镀层检测,PCB线路板镀层分析等。
荧光膜厚仪原理是将X射线照射在样品上,通过从样品上反射出来的第二次X射线的强度来。测量镀层等金属薄膜的厚度,因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线只有45-75W左右,所以不会对样品造成损坏。同时,测量的也可以在10秒到几分钟内完成。
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涂层膜厚仪的测量原理及选择方法
随着国产涂层膜厚仪的越做越好,很多用户都选择了国产的仪器。涂层膜厚仪是用于无损测量金属基体或者非金属基体表面涂层厚度的仪器。
1、磁性测量原理的涂层膜厚仪
磁性金属基体表面的涂层厚度与磁阻和磁通之间存在着一定的关系。可以利用这一关系来计算磁性金属基体表面的涂层厚度。利用测头经过非磁性涂层流入磁性金属基体的磁通的大小来测量涂层的厚度。一般情况下基体表面的涂层越厚,则磁阻越大磁通量就越小。
2、电涡流测量原理的涂层膜厚仪
简单来说,就是利用高频交流信号在测头线圈中会产生电磁场,当测头靠近导体(一般为金属)时会形成涡流。而涡流的大小与测头和导电基体之间的距离存在一定关系,当测头距离导电基体越近时涡流会越大,反射阻抗也会越大。
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膜厚测试仪的基本工作原理
膜厚仪又叫膜厚测试仪,符合了(GB/T 4957-2003)中的涡流法以及(GB/T 4956-2003)中的磁性法等相关标准。
其中涡流测厚的原理,是利用高频交变电流在线圈中产生的电磁场,当测头和覆盖层接触时,金属基体上就会产生电涡流。并且会对测头中的线圈产生了反馈的作用,非接触式全自动膜厚仪,然后通过测量反馈作用的大小来导出覆盖层的厚度。
涡流测厚原理的膜厚仪,适用于非磁性金属基体上(铜、铝、黄铜等)非导电涂层的测量(如涂料、阳极氧化层等)。如航天航空器表面、车辆等及其它铝制品表面的油漆,阳极氧化膜等。
而磁性测厚的原理,是当测头和覆盖层接触时,测头和磁性金属基体构成的一闭合磁路,由于非磁性覆盖层的存在,会使磁路磁阻发生变化,根据变化就可以测出涂层的厚度。
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