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光谱膜厚测量仪常用类型及准确操作的小技巧
基体金属特性对于涡流方法,标准片基体金属的电性质,半导体测厚仪膜厚仪,应当与试件基体金属的电性质相似。
检查基体金属厚度是否超过临界厚度,无损检测 如果没有,可采用3.3中的某种方法进行校准。
不应在紧靠试件的突变处,如边缘、洞和内转角等处进行测量。不应在试件的弯曲表面上测量。
通常由于光谱膜厚测量仪的每次读数并不完全相同,因此必须在每一测量面积内取几个读数。覆盖层厚度的局部差异,也要求在任一给定的面积内进行多次测量,表面粗造时更应如此。
测量前,应表面上的任何附着物质,如尘土、油脂及腐蚀产物等,但不要除去任何覆盖层物质。
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涂层膜厚仪的测量原理及选择方法
随着国产涂层膜厚仪的越做越好,很多用户都选择了国产的仪器。涂层膜厚仪是用于无损测量金属基体或者非金属基体表面涂层厚度的仪器。
1、磁性测量原理的涂层膜厚仪
磁性金属基体表面的涂层厚度与磁阻和磁通之间存在着一定的关系。可以利用这一关系来计算磁性金属基体表面的涂层厚度。利用测头经过非磁性涂层流入磁性金属基体的磁通的大小来测量涂层的厚度。一般情况下基体表面的涂层越厚,则磁阻越大磁通量就越小。
2、电涡流测量原理的涂层膜厚仪
简单来说,就是利用高频交流信号在测头线圈中会产生电磁场,当测头靠近导体(一般为金属)时会形成涡流。而涡流的大小与测头和导电基体之间的距离存在一定关系,当测头距离导电基体越近时涡流会越大,反射阻抗也会越大。
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涂层膜厚仪特性:
1)搭载微聚焦加强型X射线发生器和***的光路转换聚焦系统;
2)拥有无损变焦检测技术,北京测厚仪膜厚仪,手动变焦功能,可对各种异形凹槽件进行无损检测,凹槽深度范围0-30mm;
3)EFP算法,可对多层多元素,国产测厚仪膜厚仪,包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析(钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB,检测层Ni和第三层Ni的厚度);
4)配备高精密微型移动滑轨,可实现多点位、多样品的位移和同时检测;
5)可同时分析23个镀层,24种元素,光谱测厚仪膜厚仪,测量元素范围:氯Cl(17)- 铀U(92),涂镀层分析范围:锂Li(3)- 铀U(92),涂镀层检出限:0.005μm;
6)人性化封闭软件,自动判断故障提示校正及操作步骤,避免误操作;
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国产测厚仪膜厚仪-北京测厚仪膜厚仪-景颐光电品质服务由广州景颐光电科技有限公司提供。广州景颐光电科技有限公司位于广州市黄埔区瑞和路39号F1栋。在市场经济的浪潮中拼博和发展,目前景颐光电在光学仪器中享有良好的声誉。景颐光电取得全网商盟认证,标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。景颐光电全体员工愿与各界有识之士共同发展,共创美好未来。