它在光刻胶上有光刻图案问题的晶圆可被通过去掉光刻胶的办法而进行重新工艺处理。重新工艺处理会造成粘贴问题并且再次的传输操作会导致晶圆污染和损坏。显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。有***不准的图案；有表面问题如光刻胶的污染、空洞或划伤及污点和其它的表面不规则。一般使用热板或烘箱来控制温度变化。光刻工艺中的坚膜工序。
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对准***阶段是光刻工艺的重要阶段，铭牌***显影抛光，使用的掩膜***机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准***过程通常在黄光实验室中进行。
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