清洗操作的注意事项：
在清洗机内作业时，打开机器的通风设备，关闭外窗门，以防止气体扩散到清洗间，污染样品，损害操作人员健康； 保持清洗机内的清洁卫生，不摆放除超声设备、烧杯、花篮以外的其他设备。
苏州晶淼半导体设备有限公司的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！
了解超声波清洗机
超声波清洗机清洗方法逾越一样平常以的成例荡涤方法，酸腐蚀清洗机，格外是工件的表面比较繁杂，半导体腐蚀设备，象一些表面高低不平，有盲孔的机器零部件，一些格外小而对干净度有较高要求的产品如：钟表和精密机器的零件，苏州腐蚀，电子元器件，电路板组件等，应用超声波清洗机清洗都能到达很理想的成绩。
超声波产生器超声荡涤成绩不一定与（功率×荡涤工夫）成正比，有时用小功率，花费很暂时也不有清除污垢。而假定功率到达一定数值，有时很快便将污垢去除。若抉择功率太大，空化强度将大大增进，荡涤成绩是提高了，但这时使较精密的零件也产生蚀点，得不偿失，何况荡涤缸底部振动板处空化很有问题，水滴腐蚀也增大，根蒂根蒂根基上不有标题问题，但采纳水或水溶性荡涤液时，湿制程腐蚀机，易于受到水滴腐蚀，假定振动板表面已受到伤痕，强功率上水底产生空化腐蚀更很有问题，是以要按实践应用环境抉择超声功率。
清洗常用的化学***
（ACE）：【用途】除去有机残余物，有机颗粒；除去光刻胶。 异bing醇（IPA）：【用途】溶解，将有机残余物溶解。 DI水：【用途】溶解异bing醇，带走残余物。 ? SPM: (H2SO4 : H2O2 : H2O）。
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研fa
