清洗-苏州晶淼半导体-SC-1清洗机

     半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项。至于脏污的来源，SC-1清洗机，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师***自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案.

超声清洗：

     对不同材料及孔径的MCP应采用频率、声强可调的超声波进行实验，以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmMCP的清洗，当媒液为水和乙醇时，可采用空化阈约1/3W/cm2，声强10~20 W/cm2，频率20~120 kHz的超声波进行清洗。

阀座加工后污物的特点

阀座经机加工后液压集成块的深孔里面的毛刺，特别是那些尚未脱落的毛刺，用普通的吹、洗等方法难于处理。曾经尝试使用火焰的方法将深孔里的毛刺烧掉后再用油和高压风冲刷清洗处理，因毛刺的热容量较小，遇火焰很容易融化脱落而被热风带出，由于集成块的热容量大，RCA清洗台，仅使局部发热不会造成损坏。也有尝试进行酸洗的，而后再用高压液体冲洗。这二种办法均不理想。

阀座超声波清洗机其实在加工像阀体这样的工件，针对切削油较多，清洗，毛刺多而不易脱落的特点，可以进行以下的清洗配合：高压喷淋+旋转+超声波，同时也是针对阀座本身加工中产生的油和屑更好的去除办法。

当然，很多人说用酸洗又快又好。殊不知，酸是很容易将毛刺腐蚀，SC-1清洗台，在腐蚀毛刺的同时也腐蚀着工件本身；另，对环境更是一种致命的打击。

      半导体清洗机设备生产线用于PI COAT前清洗设备，描述了LCD生产线（以CSTN为主）上使用的PI COAT清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、IR、UV清洗干燥、CP降温、冷却干燥等。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。