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场效应管通过投影一个电场在一个绝缘层上来影响流过晶体管的电流。事实上没有电流流过这个绝缘体,所以FET管的GATE电流非常小。普通的FET用一薄层二氧化硅来作为GATE极下的绝缘体。这种晶体管称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管,或,金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)。因为MOS管更小更省电,余姚2090mos,所以他们已经在很多应用场合取代了双极型晶体管。
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场效应管有两大类型:N沟道和P沟道。在功率系统中,场效应管可被看成电气开关。当在n沟道场效应管的栅极和源极间加上正电压时,WP2090mos,其开关导通。导通时,电流可经开关从漏极流向源极。漏极和源极之间存在一个内阻,称为导通电阻***(ON)。必须清楚场效应管的栅极是个高阻抗端,因此,总是要在栅极加上一个电压。如果栅极为悬空,器件将不能按设计意图工作,并可能在不恰当的时刻导通或关闭,导致系统产生潜在的功率损耗。当源极和栅极间的电压为零时,开关关闭,而电流停止通过器件。虽然这时器件已经关闭,但仍然有微小电流存在,这称之为漏电流,即IDSS。
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半导体工艺制程不断缩小,MOS器件尺寸随之不断减小,当达到纳米级别后,受功耗密度、散热效率等因素影响,传统MOS器件出现一系列性能问题,性能与可靠性会退化,2090mos公司,无法满足集成电路要求。围栅硅纳米线MOS器件具有优良的栅控能力,在保持性能与可靠性方面更具优势,且具有良好的CMOS工艺兼容能力,因此成为MOS器件的重要发展方向。
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