碱腐蚀清洗设备-碱-晶淼半导体 清洗机

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，碱刻蚀台，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括***金、铜、铁、铬等，碱，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，碱腐蚀清洗设备，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、xi菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

半导体清洗机

半导体清洗机原理主要是通过换能器，碱腐蚀机，然后将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。

在液体中传播的超声波能对物体表面的污物进行清洗，其原理可用“空化”现象来解释：超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时，其功率密度为0.35w/cm2，那么这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压，但是实际上无负压存在，因此在液体中就会产生一个很大的力，然后将液体分子拉裂成空洞一空化核。此时空洞会非常接近真空的，它在超声波压强反向是会达到*这种由无数细小的空化气泡而产生的冲击波现象称为“空化”现象。

清洗机

清洗机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或***的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的性能、高可靠度和长寿命。

超声波清洗机是一种利用超声波空化这一科学技术，通过超声换能器振动发射的原理，较好地清洁附着于物品上的污垢、油垢、沉淀物等脏物，清洗效果明显直观，是集冲洗、清洁、杀菌为一体的全超声波清洗。