在半导体生产中，edi纯水设备，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？EDI超纯水技术，也称为连续电除盐技术，是两种成熟的水净化技术——电渗析和离子交换技术的结合。在低能耗的条件下去除溶解盐。运行中无需化学再生，出水电阻率高于混床出水，天津edi超纯水设备，可达10-18.2MΩ.CM，达到***电子级水I级标准。EDI对一级反渗透出水电导率要求不高，进水电导率在4-30us∕cm都能够合格产水。可能需要添加软化装置，以去除水中的钙和镁离子。如果电导率高，只需调整工作电流和用量(氯化钠)，edi超纯水设备报价，这是一项环保技术。EDI超纯水技术中的离子交换树脂不需要酸碱的化学再生，edi超纯水设备厂家，节省了大量的酸、碱和清洗用水，大大降低了劳动强度。更重要的是，无废酸碱排放，属于非化学水处理系统。无需酸碱储存和处理，无废水排放。
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？与传统混床技术相比，EDI超纯水技术工艺摒弃伴生废酸、废碱污染的传统离子交换技术，具有无化学污染、连续再生、启动操作简单、模块更换方便、产水纯度高、回收率高、占地面积小、微生物污染风险低等优点。这对保护环境和节约能源非常有益。同时，EDI超纯水技术树脂消耗量仅为传统混床的5%，具有较高的成本效益。由于溶解在水中的大多数气体(如二氧化碳)都呈弱电性，EDI可以有效地去除它们。EDI超纯水技术结合了电渗析技术和离子交换技术。通过阴阳离子交换膜的选择性渗透和离子交换树脂的交换
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