清洗机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或***的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的、可靠度和长寿命。
1.使用时若发现某设***置不能停住，而出现错误动作，应检查该处相应旋转编码器，联轴器是否松脱是否损坏。如机械臂对位不准，可重新***并录入数据。
2.上下左右大行程处均设有极限位置安全开关，若超越任何一处大行程则全机停止运行。此时需手动复位后，重新调校该行程开关或感应片即可解决。
干冰清洗方式已经在很大范围内得到迅猛的发展
干冰清洗方式已经在很大范围内得到迅猛的发展。清洗系统通过高压空气将干冰清洗机的干冰粒喷射到需要清洗的工作表面，利用温差的物理反映使不同的物质在不同的收缩速度下产生脱离。当-78摄氏度的干冰粒接触到污垢表面后会产生脆化现象，从而使污垢收缩及松脱，随之干冰粒会瞬间气化并且膨胀800倍，产品强大的剥离力，将污垢快速，可以从物体表面脱落，从而达到快速、安全、节能的清洗效果。干冰清洗所用到二氧化碳来源于工业废气，显影腐蚀机，高空空气分离等。干冰清洗本身并没有制造出二氧化碳。
以前传统的浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗，这些清洗方法都很容易***半导体表面，而且半导体制程中重复次数多的工序，清洗效果的好坏较大程度的影响芯片制程及积体电路特性等质量问题。在所有的清洗方式中超声波清洗机对半导体的清洗效率好、效果好的一种，之所以超声波清洗能够达到如此的效果是与它的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道，半导体外形比较复杂，孔内小，利用超声波清洗机的高清洁度，得益于其声波在介质中传播时产生的穿透性和空化冲击疚，所以很容易将带有复杂外形，内腔和细空清洗干净，在超声波作用下只需两三分钟即可完成，其速度比传统方法可提高几倍，显影，甚至几十倍，清洁度也能达到高标准，提高了对半导体的生产效率，更突出显示了用其他处理方法难以达到或不可取代的结果。
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