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苏州晶淼半导体设备有限公司

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:江苏 苏州
联系卖家:王经理
手机号码:13771773658
公司官网:www.jmbdt.com
企业地址:苏州工业园区金海路34号
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企业概况

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。我们的每台设备除标准化制作外,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具......

苏州晶淼半导体(图)-有机去胶设备-淮安有机

产品编号:1000000000021440143                    更新时间:2023-01-09
价格: 来电议定
苏州晶淼半导体设备有限公司

苏州晶淼半导体设备有限公司

  • 主营业务:半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
  • 公司官网:www.jmbdt.com
  • 公司地址:苏州工业园区金海路34号

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清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响

清洗液的静压力大时,不容易产生空化,所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差

清洗剂的选择要从两个方面来考虑:一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂;另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂,因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化,但是当声强超过空化阈值时,空化泡崩溃释放的能量也大,有利于清洗;高蒸气压的液体会降低空化强度,而液体的粘滞度大也不容易产生空化,因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。

此外,清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响,清洗液温度升高时空化核增加,对空化的产生有利,但是温度过高,气泡中的蒸气压增大,空化强度会降低,所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响,也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度,水较适宜的温度是60-80℃,此时空化活跃。




按照刻蚀工艺划分,其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。干法刻蚀占主导地位。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀,利用等离子体与表面薄膜反应,形成挥发性物质,或者直接轰击薄膜表面市值被腐蚀的工艺。干法刻蚀的优势在于能够实现各向异性刻蚀,即刻蚀时可控制仅垂直方向的材料被刻蚀,而不影响横向材料,从而保证细小图形转移后的保真性。因此在小尺寸的***工艺中,已经基本采用干法刻蚀工艺。湿法刻蚀工艺主要是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀,该刻蚀方法会导致材料的横向纵向同时腐蚀,会导致一定的线宽损失。




注意事项

1·当操作高压清洗机时:始终需戴适当的护目镜,手套和面具。

2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。

3·经常要检查所有的电接头。

4·经常检查所有的液体。

5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。

6·当未使用时,总是需将设置处于安全锁定状态。

7·总是尽可能地使用*低压力来工作,但这个压力要能足以完成工作。

8·在断开软管连接之前,总是要先释放掉清洗机里的压力。

9·每次使用后总是要排干净软管里的水。

10·决不要将设备对着自己或其他人。

11·在检查所有软管接头都已在原位锁定之前,决不要启动设备。

12·在接通供应水并让适当的水流过之前,决不要启动设备。然后将所需要的清洗喷嘴连接到喷杆上。

注意:不要让高压清洗机在运转过程中处于无人监管的状态。每次当你释放时泵将运转在旁路模式下,如果一个泵已经在旁路模式下运转了较长时间后,泵里循环水的过高温度将缩短泵的使用寿命甚至损坏泵。所以,应避免使设备长时间运行在旁路模式。



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