真空电镀：Vacuum Metalizing，即是物***相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，Pvd真空电镀多少钱，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
设计考虑因素
真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。
真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
详细分类如下:
其中常用的镀膜方式有:水电镀、阳极氧化、真空蒸镀、真空溅镀、离子镀。接下来，pvd真空电镀加工厂，将从CMF工程师的角度，对上述镀膜方法逐一讲解。
■水电镀法:
工艺关键词:阳极溶解、阴极附着、电化学反应
水电镀法主要应用于打造高反射镜效果、增加附着层等，其优点是可镀大面积，大朗pvd真空电镀，成本低，缺点是电解液毒性高，工业污染大。
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