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PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,pvd真空镀膜加工厂,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
PVD镀膜能够镀出的膜层种类,PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
在电子学方面,真空镀膜技术是集成电路向高集成度、、高可靠和高生产率发展的重要保证。有人估计,大规模集成电路有一半工序必须在真空条件或真空设备中进行,而在研制超大规模集成电路时,pvd真空镀膜报价,所需真空工艺和设备则占了75%以上。pvd真空镀膜
真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。
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环境效益优异:真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净,无污水排放,不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下,杨和pvd真空镀膜,真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。
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ABS的冲击强度、拉伸强度、弯曲强度都较好,易加工,能耐水,pvd真空镀膜加工,耐酸碱盐的侵蚀,但是不耐有机,是化妆品包材上常用的塑料。一般用于口红、化妆盒、粉饼盒等。

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