超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，EDI纯水设备，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
EDI超纯水系统应注意哪些问题
EDI超纯水系统应注意哪些问题1、产水水质：EDI超纯水系统可生产电阻率为0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm水质，不同的行业有不同的水质要求，导致采用的水处理工艺不同，电子纯水设备，使用的***不同，电子超纯水设备，成本自然会有所不同。 超纯水由美国科技界生产，目的是利用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适合的超临界精细技术开发超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)。目前超纯水已广泛应用于生物、医药、汽车等领域。除了水分子(H20)，水中几乎没有杂质，更不用说***、病毒、氯化和其他有机物质了。
EDI超纯水设备时应注意哪些问题?1、产水水质：EDI超纯水设备可产生0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm的水质，不同行业有不同的水质要求，采用的水处理工艺不同，天津纯水设备，使用的***不同，成本自然会有所不同。 2、设备材料：工业超纯水设备通常采用玻璃钢和不锈钢两种材质制成，应根据水处理工艺确定。 3、出水：由于超纯水不能直接与空气接触，在整个超纯水设备的末端应设置一个超纯水水箱。该超纯水水箱的尺寸主要由企业每小时所需的超纯水量决定。
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