超声波清洗机在各个行业的应用
光学、光电、光伏行业：
需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等
污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2：尘垢、盐、手垢
使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(·等)
使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂，SPM清洗设备，纯水
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，徐州SPM，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解水而得，价格比较便宜，SPM腐蚀台，每500克6元。化学反应方程式为：2N*** + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分③碱性腐蚀优点是反应生成物无·，不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有·的NOx气体污染大气。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀，可以保证一定的平行度。
超声波清洗机酿造/制药工业：
需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等
污染源：残剩食物、***、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油
使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；有机洗涤剂；纯水
清清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
苏州晶淼半导体(图)-SPM腐蚀台-徐州SPM由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司是从事“半导体清洗机，半导体清洗设备,半导体湿法设备”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：王经理。
