苏州晶淼半导体(图)-苏州晶片清洗机-唐山晶片

苏州晶淼半导体设备有限公司

是一家从事湿法制程设备研发、生产、销售、***服务于一体的高新技术企业。历来秉承高起点、高目标、高要求、有品质的企业宗旨，致力于为半导体LED行业、光伏太阳能行业、LCD液晶行业以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等有品质设备，唐山晶片，

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

适用于硅片晶圆湿法清洗、湿法刻蚀、显影、去胶、LIFT-OFF等工艺；标准吸盘适用于2-12英寸晶圆，晶片清洗，其它规格可定制；一体式清洗腔体；进口伺服电机控制，转速及工艺时间参数可自由设定；采用进口旋转电机，运行安静平稳，故障率低；真空吸盘采用PEEK+PTFE材质，强度高、耐腐蚀、密封性能好；载片台采用真空吸附+PIN***，防止甩片碎片；真空度≤-100KPa；化学液及纯水自动供应，苏州晶片清洗机，流量可视可调；可装配装取片机器人；配套药液供应系统；配有兆声清洗，兆声频率280-950KHz可选，功率连续可调；可配置滚刷刷洗；

全自动硅片腐蚀清洗机

全自动硅片腐蚀清洗机型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB。该设备适用于2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片的清洗腐蚀，德国进口磁白PP板经雕刻后热弯/焊接组合加工;一、槽体结构：该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的排阀、DI注入孔（包括氮气鼓泡）及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。二、工艺控制：冲洗槽（QDR）的工作过程由***K200型控制器保证。所有工序均由机械手自动行走自动完成。