




超声波清洗原理是通过换能器将高频超声波声能转换成高频机械振荡,晶圆清洗,清洗槽内的液体被每秒几万次高频机械振荡作用下,液体中形成高频声压,不断在液体中辐射传播。液体在高频交替变化作用下形成数以万计的空化泡,并在内部发生快速爆裂撞击污物表层,污物被层层***和剥离,从而达到清洗效果。
化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。
清洗机操作规程
准备前奏检查管路系统有无漏气漏水的情况,如有这种情况,应通知维修人员修理。检查清洗液是否足够,如果不够,及时增加清洗液。先点动试车,然后空运转2-3分钟,检查传动系统(电动机、联轴节、减速器)和运输带的运动是否平稳,晶圆腐蚀机,确认一切正常后,方可进行生产。开启浮油排除装置(不带浮油排除装置除外)开始浮油排除,因此时水泵尚开启,水面平静,排油效果*好,待浮油基本排除后停止除油,排油污多克利用午休时间进行。操作事项被清洗的零件要整齐地放在运输带上,宿迁晶圆,不许压在滚轮上;在运输带上,被清洗的零件不能堆得过多,以免影响清洗效果。工作后,被清洗的零件不能停放在运输带上, 按停止按钮,使全机停止运行。清洗机 cleaning machine 采用不同的方法清洗包装容器、包装材料、包装辅助物、包装件,晶圆清洗台,达到预期清洁程度的机器。清洗液应定期添加水和一定比例的金属清洗剂以补充消耗,使液面保持在一定高度,如果清洗效果达不到规定的工艺要求时,应全部更换清洗液。
清洗机机械/工具/量具/刃具工业:
需要清洗的产品:轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、弹簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等
污染源1:磨料、切屑、防腐剂、切削油、冷却油、磨削砂轮孔的堵塞、助熔剂
污染源2:灰尘、氧化皮
使用清洗剂1:有机性洗涤剂;轻油(洗油等)
使用清洗剂2:碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂;纯水
晶圆清洗台-苏州晶淼半导体(在线咨询)-宿迁晶圆由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司是从事“半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备”的企业,公司秉承“诚信经营,用心服务”的理念,为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询!联系人:王经理。