EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？EDI超纯水技术，也称为连续电除盐技术，是两种成熟的水净化技术——电渗析和离子交换技术的结合。在低能耗的条件下去除溶解盐。运行中无需化学再生，出水电阻率高于混床出水，可达10-18.2MΩ.CM，达到***电子级水I级标准。EDI对一级反渗透出水电导率要求不高，进水电导率在4-30us∕cm都能够合格产水。可能需要添加软化装置，以去除水中的钙和镁离子。如果电导率高，只需调整工作电流和用量(氯化钠)，这是一项环保技术。EDI超纯水技术中的离子交换树脂不需要酸碱的化学再生，节省了大量的酸、碱和清洗用水，大大降低了劳动强度。更重要的是，无废酸碱排放，属于非化学水处理系统。无需酸碱储存和处理，无废水排放。
EDI超纯水设备是将电渗析技术和离子交换技术相互结合的一种连续电除盐技术。它利用电极两端的高压使带电离子在水中移动，加速离子的去除，edi纯水设备报价，从而达到水净化的目的，如今，人们对水质的要求越来越高，水处理技术在不断创新，工业纯水设备中EDI纯水处理技术可算为工艺，很多工业生产过程都离不开工业EDI超纯水设备。
EDI的工作原理
EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术（电渗析技术）相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-，这些离子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持状态。
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，edi纯水设备生产，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，天津edi纯水设备，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
天津edi纯水设备-瑞尔环保净无止境-edi纯水设备报价由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。天津开发区瑞尔环保科技有限公司为客户提供“纯水设备,软水设备,污水设备,水处理设备,精工品质,瑞尔制造”等业务，公司拥有“瑞尔”等品牌，专注于高纯水制取设备等行业。，在中国-天津滨海高新区海泰南道28号海泰国际产业基地C座的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：瑞经理。同时本公司还是从事天津纯水设备，天津食品纯水设备，天津制药纯水设备的厂家，欢迎来电咨询。
