酸洗时金属时可能会有腐蚀金属表面的情况发生，湿法腐蚀设备，可以使用酸性金属清洗剂来代替酸洗溶液，这样一来，既保证了清洗剂效果，对金属材质也不会产生损伤。也可以在酸洗时在酸洗溶液中加入酸性金属清洗剂，这种清洗剂会***酸洗溶液对金属材料的腐蚀，***酸洗溶液挥发，避免酸雾的形成，可保护***健康安全。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，湿法清洗机，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性，进行各种材料的涂镀、电镀等操作，提高粘合强度和粘合强度，去除有机污染物，油类和油脂增加。同时。等离子清洁剂用于胶合、焊接、印刷、涂层和涂层等应用。等离子体作用于产品表面，去除产品表面的有机污染物，湿法设备，提高和活化产品的表面活性。就目前来看，蚌埠湿法，人们对芯片级封装还没有一个统一的定义，有些公司将封装本体面积与芯片面积之比小于2的定为CSP，而有些公司将封装本体面积与芯片面积之比小于1．4或1．2的定为CSP。
虽然等离子刻蚀设备在集成电路制造中得到了广泛的应用，离子刻蚀设备但由于等离子刻蚀过程中的物理化学过程复杂，它是理论上模拟和分析等离子刻蚀过程的有效方法，但目前还没有。除蚀刻外，等离子技术已成功应用于其他半导体工艺，例如溅射和等离子化学气相沉积 (PECVD)。
产品寿命长，能耐高低温及高湿度等恶劣环境。半导体生产厂家时时刻刻都想方设法降低成本，当然也有其它的因素如环保要求迫使他们改变封装型式。
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