镀银：改善导电接触阻抗，增进信号传输。（银性能***好，容易氧化，氧化后也导电）镀层大多是单一金属或合金，如钛钯、锌、镉、金或黄铜、青铜等；也有弥散层，如镍-碳化硅、镍-氟化石墨等；还有覆合层，如钢上的铜-镍-铬层、钢上的银-铟层等。任何镀液都有一个获得良好镀层的电流密度范围，获得良好镀层的***小电流密度称电流密度下限，获得良好镀层的***大电流密度称电流密度上限。
电镀产生的污水（如失去效用的电解质）是水污染的重要来源。电镀工艺已经被广泛的使用在半导体及微电子部件引线框架的工艺。铝件电镀液配方工艺流程：高温弱碱浸蚀→清洗→酸洗→清洗→浸锌→清洗→二次浸锌→清洗→预镀铜→清洗→预镀银→qing化光亮镀银→回收洗→清洗→银保护→清洗→烘干。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸.电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、润滑性、耐热性、和表面美观。
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（***铜等）及增进美观等作用。电镀的基体材料除铁基的铸铁、钢和不锈钢外，表面处理厂房，还有非铁金属，或ABS塑料、聚丙1烯、聚砜和酚醛塑料，但塑料电镀前，必须经过特殊的活化和敏化处理。镀镍：打底用或做外观，增进抗蚀能力及耐磨能力，（其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬）。（注意，许多电子产品，比如DIN头，N头，已经不再使用镍打底，主要是由于镍有磁性，会影响到电性能里面的无源互调）
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