湿法腐蚀机用途主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影，湿法腐蚀，清洗，冲洗，甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求，并配制相应的托盘夹具。湿法腐蚀机特点是外观整洁、美观，占地面积小，节省超净间的使用面积。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，张家界显影，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
芯片线宽的缩小对刻蚀本身的准确度以及重复性有了更为严苛的要求。多次刻蚀要求每一个步骤的准确度足够高，才能使得整体生产的良率保持在可接受范围内，因此除了对于刻蚀整体步骤数有明显增加外，还对每一步的刻蚀质量有了更高的要求。端制程占比持续提升的大背景下，晶圆厂对于刻蚀本身的资本开支也在大幅提升，在整体制造工艺未发生较大变化的情况下，显影腐蚀台，晶圆代工厂中刻蚀设备的占比将持续提升。
金属网片的滤网、喇叭网、隔柵网片，金属工艺品上书签、铭牌、标牌及金属面花纹制作都是通过实现片状的方式来处理。从材质的角度蚀刻片中的铜外观上不仅亮丽、硬度低、很容易加工，显影设备，可以和铁来焊接组合。不锈钢材质则能细腻的制作出细部线条，硬度较高，显影清洗，一般选择蚀刻来做工艺精度上不仅是产品光滑，也优于切割加工弊端。
学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
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