酸洗时金属时可能会有腐蚀金属表面的情况发生，可以使用酸性金属清洗剂来代替酸洗溶液，这样一来，既保证了清洗剂效果，对金属材质也不会产生损伤。也可以在酸洗时在酸洗溶液中加入酸性金属清洗剂，这种清洗剂会***酸洗溶液对金属材料的腐蚀，酸腐蚀机，***酸洗溶液挥发，避免酸雾的形成，可保护***健康安全。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），宁德酸，主要有HF，H2SO4，酸刻蚀设备，H2O2，酸腐蚀设备，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
SSEC单片处理技术使得晶圆在湿法处理时实现了对另一面的保护隔离了液体、水汽、物理的接触。应用范围包括单面湿法刻蚀、背部剥离、斜面清洗、晶圆减薄。对晶圆背部的处理取决于具体的应用。对于背部的清洗，将装有边缘夹具。对于晶圆减薄的应用，将使用真空吸附进行晶圆固定。
学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
刻蚀机作为重要的半导体加工设备之一，在半导体晶圆厂资本开支中占比较高。目前来看，刻蚀机资本开支占比达到22%，已经与光刻机同处在前梯队，而光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备三大设备合计占比高达64%。近年来刻蚀机市场规模有显著提升。湿法刻蚀由于可是方向的不可控性，导致其在高制程很容易降低线宽宽度，甚至***线路本身设计，导致生产芯片品质变差。
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