显影清洗-丽水显影-苏州晶淼半导体

湿法刻蚀设备

是一种刻蚀方法，主要在较为平整的膜面上刻出绒面，从而增加光程，减少光的反射，刻蚀可用稀释的盐酸等湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。简单来说，就是中学化学课中化学溶液腐蚀的概念，显影腐蚀机，它是一种纯化学刻蚀，具有优良的选择性，刻蚀完当前薄膜就会停止，而不会损坏下面一层其他材料的薄膜。由于所有的半导体湿法刻蚀都具有各向同性，所以无论是氧化层还是金属层的刻蚀，横向刻蚀的宽度都接近于垂直刻蚀的深度。这样一来，上层光刻胶的图案与下层材料上被刻蚀出的图案就会存在一定的偏差，也就无法高质量地完成图形转移的工作，因此随着特征尺寸的减小，显影清洗，在图形转移过程中基本不再使用。目前，湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节，而在图形转移中干法刻蚀已占据主导地位。

清洗机设备

平制造工程和制造工艺

      作为LCD制造工艺有代表性的清洗处理有以下几类：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蚀处理后的清洗

      3）屏组装工程的清洗

            摩擦后清洗

            US气吹

            屏清洗装置

            清洗检测装置

      4）其他相关的附带清洗装置

            边框胶印刷用版的清洗

            夹具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剥离清洗

            卷扬干燥机

            IPA蒸气干燥机

            旋转

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

面板显示使用的是玻璃基板作为电路的载体，所有的膜质以及对膜质光刻后的图形都是依附在玻璃基板上。在每次成膜或者光刻前都要对玻璃基板表面进行深入清洁，显影腐蚀台，虽然玻璃基板是在无尘车间里运行，丽水显影，但是，还是会存在各种***（particle）：无机类***和有机类***，所以，清洗设备的较大作用就是去除表面的***，来提升产品的整体良率。