硅片清洗烘干
方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板150～2500C，1～2分钟，氮气保护）
目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（对光刻胶或者是HMDS-〉二硅胺烷）。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，LED清洗设备，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，扬州LED，就是工业酒精，LED腐蚀机，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
石油化工
清洗主风机、气压机、烟机、汽轮机、鼓风机等设备及各式加热炉、反应器等结焦结炭的清除。清洗换热器上的树脂；清除压缩机、储罐、锅炉等各类压力容器上的油污、锈污、烃类及其表面污垢；清理反应釜、冷凝器；复杂机体除污；炉管清灰等。
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果，更能适应于半导体新制程工艺。
根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。
可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置（可选）。
应用：专为清洗和蚀刻而设计，适用于前道和后道工艺清洗。
LED腐蚀机-扬州LED-苏州晶淼半导体由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。“半导体清洗机，半导体清洗设备,半导体湿法设备”选择苏州晶淼半导体设备有限公司，公司位于：苏州工业园区金海路34号，多年来，苏州晶淼半导体坚持为客户提供好的服务，联系人：王经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州晶淼半导体期待成为您的长期合作伙伴！
