采用等离子处理的优点：1，经等离子处理后可增加材料表面张力、增强粘接强度，从而提高产品质量；2，可替代热融胶，使用冷粘胶或低牌号普通粘合剂来保证粘结质量。减少胶水使用量，有效降低生产成本；3，采用等离子工艺，可使UV上光、PP覆膜等难粘合材料使用水性胶水都粘得很牢。并淘汰机械打磨、打孔等工序，不产生灰尘、废屑，符合***、食品等包装卫生安全要求，有利于环保；4，等离子处理工艺不会在被处理材料表面留下任何痕迹，肉眼分辨不出来有被处理加工；5，等离子因为是电离气体，因而，没有废气废水等污染物排放，安全环保。
半导体磁盘清洗机欲清洗工件放入料框内固定夹内，由人工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，上下提升机构依照PLC的程序将料框搬送到相应高度位置;完成对工件的洗剂清洗、纯水喷淋、纯水超声漂洗、慢提拉脱水和热风干燥后，送至清洗机出口，功率器件腐蚀设备，运送到卸料台出料。等丁位机械手由气制横向驱动，直线滑轨导向;上下提升由马达驱动，直线导轴导向;慢提拉提升机构由变频马达驱动，直线滑块导向;上下料由上下提升机构***完成;采用触摸屏操作系统，有手动和自动切换开关及有关操作按钮，能对整个运行过程实行控制。
超声波槽内的超纯水通常由纯水供应系统直接配给，功率器件清洗设备，其温度小于清洗槽内的温度，由于接触中的传热导致槽内清洗液在循环加热的过程中的温度控制更困难，从而是出发低温报警的风险增加，对生产的效率与产品硅片的质量均有影响。因此需要对超声波槽的温度进行控制设计，使其可以满足清洗槽内的温度稳定行控制要求。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），徐州功率器件，主要有HF，H2SO4，H2O2，功率器件清洗，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
徐州功率器件-功率器件腐蚀设备-苏州晶淼半导体(推荐商家)由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州晶淼半导体设备有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为清洗、清理设备具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!
