EDI超纯水设备压力过高该如何是好？当EDI超纯水设备压力过高时，盐的吸收速度会变得非常快，缩短了再生时间，无法达到树脂再生的效果。如果EDI超纯水设备压力过高，天津电子超纯水设备，应及时检查水阀、管道堵塞、浓水调节等因素。逐一检查故障并采取相应的解决方案。常见解决方案： 1、增加上游净化水压力，根据RO入口截止阀调整浓水和产水压力。 2、打开高压泵出口阀和RO入口阀，或关闭浓水管道上的针阀。为了保证EDI超纯水设备的正常运行和使用寿命，我们在日常使用中应多观察并及时记录。
EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元，并构成淡水室，单元与单元之间用网状物隔开，形成浓水室。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水（高纯水）。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，电子超纯水设备定制，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，工作是连续的，不需要酸碱化学再生。
EDI装置将给水分成三股***的水流：纯水、浓水、和极水。纯水（90%-95%）为终得到水，电子超纯水设备安装，浓水（5%-10%）可以再循环处理，极水（1%）排放掉。
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，电子超纯水设备价格，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
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