光学平台广泛运用于光学、电子、精密机械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和无损检测等领域，以及其他机械行业的精密试验仪器、设备振动隔离的关键装置中。 随着***的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。
这种双面加工，一般速度不高。下模比较大，上模比较小，挡圈直径比上模大，比下模小。适当地调节上模的摆动量，可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。研磨或抛光时，人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。这种低速的双面加工，比单面加工提高了效率，但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求，所以只适用于般精度平板的加工。
随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展，由于大批量半导体硅片加工的需要，国外出现了双面高速加工机床，适用于半导体硅片的双面研磨和抛光，进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。
为了提高光学平台使用者对产品质量优劣的鉴别能力，让我们简单的来了解下光学平台的注意事项以及各项指标的意义和检测方法，光学平板价格， 光学平台外观：光学平台外观应美观，各部位都应无影响安全的锐角及锐边，更重要的是检查孔口倒角是否均匀一致（螺孔旋入后应垂直平台面），四边及其倒角是否平直一致。如果台面未经过机械加工而是人工打磨 出来的孔口倒角是大小不一致的，沿台面四周边用目测即可看出台面倒角处是弯曲的。
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