MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，刻蚀微纳加工制作，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
微纳制造的加工材料多种多样。
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程，介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状，并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后***介绍了浸没光刻，极紫外光刻，电子束光刻，离子束光刻，X射线光刻，陕西微纳加工制作，纳米压印光刻等技术的概念，发展过程和特点，并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。末尾结合国内外生产商，工程师和研究学者的研究成果，对光刻技术的未来发展做出展望。
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微纳加工中:自对准的双重成像、双线条光刻、双重光刻工艺中的双沟槽光刻技术、三重光刻等都是硬掩膜的主要应用。那么他，它在双沟槽光刻的工艺流程又是如何的呢?﹖我们简单的了解下。
1.硬掩模层(如SiN)被沉积在衬底上。光刻胶材料(PR/BARC)被旋涂在硬掩模之上。
⒉.次光刻之后，在光刻胶上形成沟槽密度为设计时一半的图形，功率器件微纳加工制作，即占空比(沟槽与线条比值)为1:3。
3.采用刻蚀工艺将图形转移到硬掩模层。剥离残余光刻胶之后，做第二次光刻。第二次光刻可以使用不同的光刻材料。第二次光刻的图形，同样通过刻蚀被转移到硬掩模上。
4.把硬掩模上的图形刻蚀到衬底上。
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微纳加工技术能突显一个***工业发展水平。
微纳加工平台就是一个小工厂，虽然是科研但是设备不比真正的量生设备便宜。自从某国限制出口我国滤波器件以及其他芯片，真正的促使我们更加的正视我们的芯片产业生态。微纳加工平台，主要是两个方面：微纳加工、微纳检测。微纳加工设备主要有：光刻、刻蚀、成膜、离子注入、晶圆键合等。微纳检测主要是表征检测：原子力显微镜、扫描电镜、扫声波扫描显微镜、、台阶仪等。每一个设备都包含比较多具体的分类。光刻机，也被称为***机，三大类:步进式光刻机，接触接近式光刻，电子束***。
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