RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后，半导体清洗设备，几十年来被广泛采用。它的基本步骤初期只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的RCA清洗大多包括四步，即先用含***的酸性进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性进行碱清洗，接着用稀的qing氟酸溶液进行清洗，然后用含盐酸的酸性进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（DI水）进行漂洗，然后再用低沸点进行干燥。
影响超声清洗的因素
清洗液的流动速度对超声清洗效果也有很大影响，是在清洗过程中液体静止不流动，这时泡的生长和闭·运动能够充分完成。如果清洗液的流速过快，则有些空化核会被流动的液体带走有些空化核则在没有达到生长闭·运动整过程时就离开声场，因而使总的空化 强度降低。在实际清洗过程中有时为避免污物重新粘附在清洗件上．清洗液需要不断流动更新，连云港半导体，此时应注意清洗液的流动速度不能过快，以免降低清洗效果。
清洗液中气体的含量对超声波清洗效果也有影响。在清洗液中如果有残存气体(非空化核)会增加声传播损失，此外在空化泡运动过程中扩散到泡中的气体，在空化泡崩溃时会降低冲击波强度而削弱清洗作用。因此有些超声清洗设备具有除气功能，在开机时***行低于 空化阈值的功率水平作振动，以脉冲或间歇方式振动进行除气．然后功率加到正常清洗的功率水平进行超声清洗。
清洗机的优点
超声波清洗机是利用超声波发生器产生的的超音频电信号，通过换能器的压电效应转换成同频率的机械振荡，并以超音频机械波的形式在清洗液中辐射.由于超音频机械波传播的正压区和负压区交替作用，产生无数超过1000个大气压的微小气泡，形成对清洗物表面的细微局部高压轰击，半导体酸洗机，使物体表面及缝隙之中的污垢迅速剥落，这就是超声波清洗机所特有的“空化效应”.人们利用这一“空化效应”把超声波清洗机广泛的应用在:
航空、航天;2铁路;3汽车、摩托车制造业;4光学器件;5液晶(lcd)制造;6电子制计算机;7微电子;8电子电器元器件;9五金冲压件;10机械的零件;11家电产品;12电镀，真空镀;13钟表、眼镜、珠宝;14电机，微电机;15容器类;16***器具;17***有效成份萃取;18维修清洗--各种设备，设施，交通运输车辆工具，半导体清洗机，家用电器维修中的除油，除尘，除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗，打印机喷头清洗，cd/vcd/dvd光盘等领域生产加工过程中或终端的除油、除蜡、粉尘，松香等污染物的清洗。
