基片湿处理设备;硅片清洗刻蚀设备;硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备;外延钟罩清洗机;硅片电镀台;硅片清洗机;石英管清洗机;LED清洗腐蚀设备等。 光伏太阳能:全自动多晶硅块料腐蚀设备;多晶硅硅芯硅棒腐蚀清洗机;太阳能硅片切片后全自动腐蚀设备;太阳能硅片制绒酸洗设备;去磷硅玻璃清洗线;石英管酸洗设备等(含自动干燥功能、自动补液上液功能)。 LCD液晶:LCD液晶减薄设备;化学自动供液系统(CDS);尾气处理设备及辅助设备;液晶玻璃清洗设备等。

晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果,更能适应于半导体新制程工艺。
根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室,单腔室大处理速度可达到35片/小时。
可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置(可选)。
应用:专为清洗和蚀刻而设计,适用于前道和后道工艺清洗。

从可见光探测向微光、红外、紫外、X射线探测的器件,其探测范围从γ射线至远红外甚至到亚毫米波段的广阔的光谱区域,其探测元从点探测到多点探测至两维成像器件,像元数越来越多,分辨本领越来越大。通过微光学机械电子技术的集成工艺,光电子器件的体积越来越小,集成度越来越高,各种新型固体成像器件不断被开发成功,在很多方面代替了传统的真空光电器件。

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