Parylene HT，该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
CVD（Chemical Vapor Deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °C高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°C 的升华区内升华，在惰性气体的推动下，派瑞林价格，二聚体进入温度为 660°C 的裂解区，高温下二聚体的分子键断裂，派瑞林镀膜，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
可耐5000V且可随厚度增加而持续提高
绝缘性能不会受环境温度和湿度的影响；
Parylene 的介电常数和介电损耗均非常低且不受吸潮的影响；
Parylene 的高纯度、表面憎水性及不存在任何痕量的离子污染又保证了极高的体积电阻率和表面电阻率；
极低的高频损耗，深圳派瑞林，特别适合超高频器件。
用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证用。另外当绕线器件很小时，使用传统胶带做绝缘就很困难。用Parylene涂层能够有效此问题并具有大量生产降低成本的优势 。
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出，任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附，派瑞林加工，但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能，因此能否实现原子层沉积，选择合适的反应前驱体物质是很重要的。
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