在电子学方面，真空镀膜技术是集成电路向高集成度、、高可靠和高生产率发展的重要保证。有人估计，大规模集成电路有一半工序必须在真空条件或真空设备中进行，而在研制超大规模集成电路时，所需真空工艺和设备则占了75%以上。真空镀膜
真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。
真空镀膜的应用广泛，宝安真空镀膜，如真空镀铝，五金真空镀膜，在塑料等基体上进行真空镀，再经过不同颜色的染色处理，可以应用于家具、工艺品、灯饰、钟表、玩具、汽车灯具、反光镜及柔软包装材料等产品制造中，装饰效果十分出色。真空镀膜
真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆:如铝、钛、锆等镀层，甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的.
真空镀膜性能优良:真空镀膜厚度远小于电镀层，但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好，真空镀膜公司，孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。
真空镀膜主要方法：离子镀膜。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。这些离子在电场作用下被加速而射向接入负电位的基体后，即可生成薄膜。真空离子镀膜的特点：镀膜所适用的基体材料与膜材均比较广泛。
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