无尘车间净化技术的设备发展
美国ASYST公司、德国MW公司发展的使用隔离技术的亚微米生产微环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。该项新的无尘车间洁净技术在100级洁净度的洁净厂房中，简易无尘室，采用工艺设备局部使用隔离技术的微环境，无尘室，把***比例压缩到高ji别的微环境，无尘车间消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源产生对集成电路成品率和可靠性的影响作用。
电子产品制造中无尘车间防静电技术指标要求
（1）防静电地极接地电阻＜10Ω。
（2）防静电地面或地垫：表面电阻值105-109Ω，摩擦电压＜100V。
（3）防静电墙壁：电阻值5×104-109Ω。
（4）防静电工作台垫：表面电阻值105-109Ω；摩擦电压＜100V；对地系统电阻105-109Ω。
（5） 防静电工作椅面对脚轮电阻105-109Ω。
（6） 防静电工作服、帽、手套摩擦电压＜300V；鞋底摩擦电压＜100V。表面电阻值105-109Ω。
（7） 防静电腕带连接电缆电阻1MΩ；佩带腕带时系统电阻750KΩ-1O.5MΩ。脚跟带（鞋束）系统电阻105-108Ω。
（8）物流车台面对车轮系统电阻105-109Ω。
（9）料盒、周转箱、PCB架等物流传递器具表面电阻值103-109Ω，摩擦电压＜100V。
（10）包装代、盒摩擦电压＜100V。
（11）***综合电阻105-109Ω。
净化技术的设备发展
美国在台湾的T***CS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。我国使用的0，1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0.1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的***中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。
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